Nouvel hôtel d'Osaka is situé dans Quartier Yodogawa, Osaka, 532-0011. Adresse de Nouvel hôtel d'Osaka est 5 Chome-14-10 Nishinakajima, quartier Yodogawa, Osaka, 532-0011, Japon. Nouvel hôtel d'Osaka peut être contacté à 81663052345. Nouvel hôtel d'Osaka est situé dans une zone très fréquentée et nous couvrons au moins 434 endroits autour de lui sur Japan-Places.com. Nouvel hôtel d'Osaka est noté 3.5 (sur 5 étoiles) par 1028 critiques sur le web.

Certains des endroits autour Nouvel hôtel d'Osaka sont -

(Centre commercial) (environ. 323 meters)

Bâtiment McDonald's Shin-Osaka Hankyu (Restauration rapide) Japon, 〒532-0003 Osaka, Yodogawa Ward, Miyahara, 1 Chome-1-, Bâtiment Shin Osaka Hankyu (environ. 367 meters)

Gare de Shin-Osaka (Terminaux de voyage) Osaka, Japon (environ. 347 meters)

(Magasin de Donut) (environ. 349 meters)

(Pâtisserie) (environ. 302 meters)

Centre de conférence de l'hôtel Mystays Shin Osaka 6 Chome-2-19 Nishinakajima, quartier Yodogawa, Osaka, 532-0011, Japon (environ. 361 meters)

(Siège social) (environ. 300 meters)

Dream Solar Shin-Osaka (Fournisseur d'équipements d'énergie solaire) 5 Chome-14-5 Nishinakajima, Yodogawa Ward, Osaka, 532-0011, Japon (environ. 156 meters)

(Service de marketing Internet) (environ. 343 meters)

(Service de marketing Internet) (environ. 252 meters)

À moins d'un demi-kilo mètre de Nouvel hôtel d'Osaka, tu peux aussi trouver Sostron Japon Co., Ltd., Branche d'Osaka du club de musique, Agence JR Tokai Succursale du Kansai, Bâtiment Oriental Shine Osaka, Bâtiment Shin-Osaka Rose, Construction de la vallée, Recruter le bâtiment Shin-Osaka, 3e bâtiment Nakajima, Ueno, Bâtiment de la sortie sud Nissei Shin-Osaka, Siège du district de Sanix Kansai, MAITRII, H2 Thérapie par inhalation et relaxation, Nippon Denki Kogyo Co., Ltd., Etex Japan Co., Ltd. Succursale d'Osaka, Japon Dental System, LLC., Atelier Porcelica Atelier Porcelica Nouvelle classe d'Osaka, Feet Warmer, un magasin spécialisé dans les foot pots taïwanais, Groupe RAMPF Japon Co., Ltd. et beaucoup plus.